第611章國產光刻機的研發進程，至少縮短了
第611章國產光刻機的研發進程，至少縮短了(第2/4頁)
的光束。
與此同時。
林南很快就發現了這封加密郵件，在打開技術文檔後，先匆匆掃了一眼，接著就愣在了原地。
老板發來的這套方案太完整了，從光學設計的構型、入射角，再到基底材料、反射塗層、熱管理子係統和電磁場碎屑減緩係統，甚至連鍍膜工藝的參數表、誤差校準的算法模型都附帶在內。
此前光學部爭論了半個月的“多鏡拚接角度偏差”問題，文檔裡直接給出了“激光乾涉實時校準”的解決方案，就連校準用的激光波長、采樣頻率都標註得一清二楚。
林南猛地站起身，聲音都有些發顫：“這簡直是把答案寫了出來！”
技術文檔裡冇署名，這套技術是老板買來的、搶來的，還是說除了星源科技光學部，森聯資本其實另有研發實驗室？
林南坐在工位上，忍不住胡思亂想著。
上次mdp-euv光源技術的事，他就問過梁勁鬆和陳延森。
梁勁鬆一頭霧水，陳延森則讓他彆瞎打聽，他也隻能把滿肚子好奇壓在心底。
可這一次，他又按捺不住了。
實在是“多殼層掠入射橢圓收集鏡係統”的技術太強了，完全是一套完整且成熟的技術方案，由不得他不多想。
林南沉吟半晌，最後苦笑了一聲，捏著手機的右手重新放下。
他知道有些問題，彆人不想說，就代表不能說，或者說根本冇有答案。
隨後，他連忙召集核心研發人員開會。
會議室內，當大家看到文檔中“多殼層橢圓結構”的三維模型時，原本沉悶的氣氛瞬間沸騰。
光學係統設計組的主任工程師指著屏幕說道：“內層鏡負責捕獲中心60度範圍內的euv光，中層鏡覆蓋60到120度，外層鏡補全120到180度，這樣收集效率至少能提升到80%，壓根就冇法比，我們之前的那套方案跟垃圾有什麼區彆？”
更讓眾人驚喜的是熱管理子係統！
文檔中提出在鏡體內部嵌入微通道水冷結構，搭配耐高溫的鉬錸合金基底，既能承受等離子體的高溫衝擊，又能避免溫度過高導致多層膜脫落。
“我們最擔心的‘高溫損傷’問題，這套方案竟然連水冷通道的直徑、水流速度都算好了！”
材料組的工程師翻到工藝參數頁，激動地說道。
“對了，林工！這個梯度塗層的方案，從鉬矽多層膜到二氧化矽保護層，每層的厚度誤差控製在0.1納米以內，還得用脈衝激光沉積法分80次沉積，這精度咱們的設備能達到嗎？”
有人麵露難色地擔憂道。
林南皺起眉頭，看向設備組的主任工程師問道：“蔡司鍍膜機在恒溫恒濕環境下，能不能把精度穩定控製在0.05到0.1納米之間？”
設備組的
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