第611章國產光刻機的研發進程，至少縮短了
第611章國產光刻機的研發進程，至少縮短了(第3/4頁)
主任工程師想了想，非常嚴謹地回答道：“連續沉積10層鉬矽膜，厚度誤差最小0.04納米，最大0.09納米，剛好能滿足方案要求。
但問題是，每次換靶材、調整激光功率時，誤差會出現0.12到0.15納米的波動，80次沉積下來，累積誤差可能會超標。”
林南思索片刻，給了一條解決思路：“那就加一道實時校準的流程，算法組先開發一套膜厚監測程序，跟鍍膜機的傳感器聯動，每沉積10層，就自動暫停，用電子顯微鏡掃描膜厚。
根據實測數據調整下一輪的激光功率和沉積時間，把單次誤差控製在0.05納米以內。
另外，在鍍膜機周圍加一圈恒溫罩，避免溫度的負麵影響。”
其他人聞言，頓時豁然明悟。
林南畢竟是滬城光學精密機械研究所的高級工程師，能力和技術兼而有之，又是胡銳暉極力推薦的人才，關鍵時刻能拿出行之有效的方案倒也正常。
事實上，在陳延森看來，像林南等人，智商、領悟力和創造力都不錯，但苦於接觸不到euv光學的頂尖技術，這才像是鬼打牆似的，一直繞彎路。
若是能擁有同等的科研環境，林南未必開發不出一套收集鏡係統，可很多事終究冇有如果。
而陳延森能搞定這項技術，靠的也是遠超常人百倍的精神力，以及能讓他進入超頻思維狀態的【普朗克時鐘】天賦。
不然以他原本的能力，或許也能突破這項技術，但要花費的時間，絕對不止半個月。
在拿到“多殼層掠入射橢圓收集鏡係統”的技術方案後，星源科技光學部上下，立刻投入全部精力，以最快的速度反複打磨、全力複現，力求將這套係統成功應用到實際生產中。
算法組連夜加班，三天內就完成了膜厚監測程序的開發。
該程序可以實時采集鍍膜機的激光功率、沉積時間數據，還能自動生成膜厚誤差曲線，當誤差超過0.05納米時，將會觸發暫停指令，進而對精度進行實時校準。
由於研發中心還有大量光電所的工程師，所以科學協會的大佬們，冇過多久就得知了星源科技的技術突破。
“老胡，你幫我問問，星源科技還缺不缺人？”
滬城光學精密機械研究所的汪象朝，主動撥通了胡銳暉的電話，支支吾吾地說道。
“什麼意思？你想辭職？開什麼玩笑！”
胡銳暉反問道。
汪象朝可是滬城光學精密機械研究所的中流砥柱，主要的研究方向都在euv光源領域，前後申請了170餘項專利，妥妥的行業大牛。
“老胡啊，星源科技連自研的收集鏡係統都弄出來了，你知道這意味著什麼嗎？再往下走，光源係統就能徹底打通，一旦完成雙工件臺
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