第134章接受軍方任務
第134章接受軍方任務(第2/3頁)
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曹主任也冇有二話，開車帶著蘇硯直奔國營光東工廠。
在曹主任的陪伴下，這裡冇有任何人為難看起來就很年輕的蘇硯，大家都客客氣氣接受她的指導。
國營光東電工廠超淨車間密閉無塵，恒溫係統持續運轉，濾塵設備發出細碎平穩的嗡鳴，消解了所有多餘的聲響。
整間車間籠罩在半導體工藝專用的暖黃色安全燈下，褪去了刺眼的白光，隻為保護光刻膠塗層不受光線乾擾。
空氣裡浮動著高純氮氣、光刻膠與有機溶劑交織的清冷淡味，每一寸空氣都經過層層過濾，連飄落的微塵都近乎絕跡。
身著全套白色潔淨服的眾人包裹得嚴嚴實實，頭罩、口罩、無菌手套、無塵鞋缺一不可，隻露出一雙雙凝神專註的眼睛，在暖黃燈光下熠熠生輝。
蘇硯佇立在光刻工藝操作臺旁，身姿挺拔沉穩。
連日紮根車間通宵調試，她的眼底藏著淡淡的青黑，眉眼間卻冇有半分疲態，隻剩極致的專註與篤定。
麵前的操作臺一塵不染，整齊擺放著待測試的矽片、精密鑷子、刻度記錄本與調試工具，頁麵上密密麻麻寫滿了迭代數百次的工藝參數。
柵氧生長溫度、擴散爐恒溫時長、光刻對準誤差、源漏摻雜配比，每一組數據都是她依托成熟的dtl雙極工藝，反複推翻、反複調試摸索出的關鍵依據。
身旁兩名年輕技術員正俯身緊盯顯微鏡，反複核對剛出爐的pmos管芯切片，神情緊繃，眉宇間藏著一絲焦灼。
這段時間，他們最大的難題始終是柵極邊緣毛刺、局部摻雜不均，屢屢拉低矽片成品率，好幾次即將成型的工藝參數，都因這兩處瑕疵功虧一簣。
年輕技術員壓著心底的忐忑，輕聲彙報，聲音被口罩悶得低沉含糊。
“蘇工，這批試樣還是老問題。光刻顯影後，柵極線條邊緣不夠平滑，有細微毛刺，而且部分片區摻雜濃度偏差超標，達不到量產標準。
我們按照原dtl工藝參數微調過幾次，偏差反而更大。”
蘇硯聞言冇有立刻開口責備，隻是微微頷首，抬手微調顯微鏡焦距，動作輕柔穩當，力道精準分毫不差。
她俯身湊近目鏡，目光沉沉落在微小精密的管芯結構上，細細觀察紋路、塗層與摻雜層次，幾秒後便精準摸清了問題根源。
她直起身，指尖輕點記錄本上的兩組核心參數，語氣平穩溫和，卻帶著不容置疑的專業底氣，字字清晰、條理分明。
“dtl是雙極工藝，和我們現在攻堅的pmos工藝底層邏輯完全不同，不能直接套用老參數。
雙極工藝側重電流放大，而pmos核心在柵氧層的均勻度和可控性，生搬硬套隻會出現邊緣畸變、摻雜失衡。”
說著
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