第232章線上對話
第232章線上對話(第2/4頁)
不是某個器件怎麼優化。
而是整套係統怎麼容錯，怎麼補償，怎麼把局部缺陷納進整體可用框架。
沈明軒往下追。
“第二個問題，波導損耗。”
“氮化矽損耗低，但和cmos工藝兼容性差。”
“氧化矽兼容性好，可損耗又偏高。”
“你在提綱裡，似乎傾向於探索混合材料體係。”
“為什麼？”
陳啟答得依舊很穩。
“因為我們不準備賭一種完美材料，現實裡，完美材料未必能量產，量產不了，再漂亮也隻是實驗室結果。”
“所以你更看重可製造性？”
“對。”
陳啟點頭。
“性能、成本、工藝兼容性，三件事不能割裂看，啟棠如果做這件事，目標不是做論文樣品，是做能走進工藝線、能走向產品的方案，所以混合材料體係對我們更現實。”
“例如，在氧化矽體係裡做微量元素調控，換折射率窗口，壓一部分損耗。”
“或者往二維材料方向試探，讓某一層承擔特定功能，而不是要求一種材料包辦所有指標。”
“我們要的是整體最優，不是局部極限。”
這一次，沈明軒冇有馬上發問。
他低頭在紙上快速記了兩筆。
學術圈裡太多團隊會天然追逐單項極限。
指標越高越好。
論文越新越好。
但工業化要的平衡。
沈明軒抬起頭，問出第三個問題。
“最後一個問題。”
“也是最根本的問題。”
“如果光子芯片隻是替代一部分電互連，那它的意義有限。”
“想真正超越現有路線，僅僅降損耗、提帶寬，遠遠不夠。”
“必須重構架構。”
“你在提綱最後提了一個詞，光電深度融合。”
“具體要怎麼落地？”
話音落下。
這個問題，已經不是某個工藝節點了。
它問的是整改體係。
陳啟目光落在攝像頭上。
“最關鍵的一步，不是某個器件，也不是某項單一工藝，而是設計理念變掉。”
“繼續。”
“不能再把光器件當成外掛模塊，後期貼到電芯片上。”
“那隻是修補，不是重構。”
“真正的路，應該從最初架構設計開始，就把光和電一起考慮進去。”
“哪些信號適合光傳輸。”
“哪些環節適合保留電子執行。”
“哪些存儲和計算結構，未來能不能局部引入光學機製。”
“這些都該在第一張設計圖的時候就想清楚。”
沈明軒這個分量，這就意味著，不是做一顆光學器件，重建一整套方法論。
（本章未完，請點擊下一頁繼續閱讀）第232章線上對話(第2/2頁)
陳啟繼續往下說。
“這件事往下走，會遇到幾個門檻。”
“第一，全新的eda工具。
（本章未完，請點擊下一頁繼續閱讀）