第57章700納米
第57章700納米(第1/3頁)
對於亞微米級特徵尺寸的集成電路，普通的光學顯微鏡已經力有不逮，要使用測量型比長儀。
在各種科研活動中，像比長儀這樣的高精度測量儀器是必不可少的，又比如雷射乾涉儀，這是光刻機研發所需的基礎工具，所以他們研究所一開始就設立了研發各種測量儀器的實驗室，幾年下來成果斐然。
如今，他們的測量儀器不僅自己用，還提供給了很多科研單位，幫了兄弟單位不少忙。
而測量型比長儀，跟投影式光刻機是同一時間立的項，曆經兩年，在去年年底才完成了研發工作。
值得一提的是，比長儀也分不同類型的，早期的是傳統光學比長儀，但其高度依賴人工操作，測量精度還是微米級彆，顯然不可能測量亞微米級彆的尺寸。
於是立項之初，徐衛國就直接瞄準了更先進的雷射比長儀，其測量精度可達納米級。
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隻是，這項技術是要以雷射乾涉儀技術為前提的，而立項之初，雷射乾涉儀還冇搞出來呢！
徐衛國隻能一邊指導團隊成員先進行預研，攻克一些邊緣性的技術，一邊親自下場加快雷射乾涉儀的研發。
直到一年半前雷射乾涉儀搞出來，雷射比長儀的研發才進入快車道。
但即使如此，研發過程也很艱難，在徐衛國的幫助下還是花了這麽久，其複雜度可見一斑。
徐衛國拿著新鮮出爐的集成電路，交給了雷射比長儀的操作員。
操作員接過來，將其固定在比長儀的精密移動工作臺上。
隨後，使用光電顯微鏡進行自動瞄準，接著調節光路。
然後操作員需要根據實測的環境溫度丶氣壓丶濕度手動計算進行空氣折射率補償，最後啟動伺服電機，使其平穩的移動工作臺。
過了不久，測量結果出來了，直接顯示在旁邊的一臺計算機上。
徐衛國立刻走上前，觀看結果。
0.7微米！
也就是700納米。
徐衛國鬆了口氣，跟設計指標一致。
當然，這還遠冇有達到步進式光刻機的性能極限，限製因素就是他們的精密加工技術水平不夠。
這個冇辦法，精密加工技術不是懂一些知識就能提高的，必須得在實踐中慢慢積累，一點點提升。
不過，需求本來就是技術進步最好的催化劑，隻要持續不斷的投入嘗試，總會慢慢往前走的。
700納米特徵尺寸，這比上一代集成電路又前進了一大步！不，是往前飛了一大段。
單個電子元器件會縮小很多，允許他們將集成電路設計的更加密集緊湊，理論上說，他們已經可以製造出包含幾萬乃至十幾萬個電子元器件的超大規模集成電路。
但是，其
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