第830章芯片进展2
第830章芯片进展2(第3/3页)
”
姚尘风的追问，让刚刚稍有缓和的气氛再次激起千层浪。
所有人的心都提了起来，目光聚焦在那位工艺整合负责人身上。
负责人的表情瞬间变得更加严峻，他甚至下意识地深吸了一口气，才操作电脑。
投影画面切换到一个更加复杂、数据点更加稀疏且波动剧烈的图表：n+1工艺良率追踪图。
那如同癫痫患者心跳般的曲线，让所有懂行的人心里都是一沉。
“姚总、冯总，n+1工艺，我们面临的是一堵技术界的‘叹息之壁’。”他的声音干涩。
“它的目标是实现比14nm更高的晶体管密度和能效比，这要求我们在晶体管架构、新材料、新集成技术上都取得突破。
目前，我们在三个核心领域遇到了巨大的、近乎原理性的困难。”
他逐一指出图表上的几个致命低谷：