第430章国产设备的惊喜
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神。
沈明轩没有说话，他把参数菜单往下翻，停在控制模式那一栏。
日本设备用的是精密伺服闭环，参数锁得很死，优点是定位准，缺点是可调范围窄，过去他们所有波导侧壁粗糙度优化，都建立在那套设备的精密路径上。
华科精密这台样机不一样。
它用的是开环加软件补偿，机械精度不占优势，但光斑功率密度分布可以手动拉宽，补偿曲线也能开放到工程师端，屏幕上每一个参数栏都能点进去改。
沈明轩盯着光斑功率密度分布的设置栏，手指停在触控屏边缘。
禁运公告发布后，他这几天一直在看同一个问题，如果日本设备再也进不来，光芯实验室不能一边骂禁运，一边继续按日本设备的工艺窗口找答案。
只能用国产设备。
那就在国产设备的可调范围里找最优解。
之前他们卡在零点八，是因为梯度刻蚀的侧壁粗糙度已经压到一个平台，继续用窄而尖的光斑去修饰侧壁，边缘热影响区会很不均匀，越往下调，损耗改善越小。
如果把光斑功率密度拉宽，用开环模式做更大的软件补偿，侧壁上形成的熔融层会更均匀，粗糙度也许能再往下。
沈明轩拿起记号笔，在白板上画了两条曲线。
一条窄而尖，是旧设备的光斑分布；一条宽而平，是华科样机能给出的分布。
工程师陈宇航站在旁边，看着那条宽曲线：“沈博，这样耦合效率会不会掉？”
“会掉一部分。”
沈明轩在宽曲线中段画了一个圈：“但我们不要最高耦合效率，我们要侧壁更均匀的能量分布，先试这个窗口。”
另一个工程师翻着工艺表：“那波导刻蚀后的热处理参数也要跟着改。”
沈明轩点头：“三项一起动：光斑宽度、功率密度、补偿曲线，其他参数不动。”
陈宇航看了眼旧记录：“这是新窗口，没有历史数据。”
沈明轩把记号笔扣上：“没有就跑出来。”
第一轮参数调整用了很久，华科精密的控制软件还带着早期样机的痕迹，有两个界面跳转不顺，一名工程师把问题记进联调清单，另一名工程师在控制台旁手动复核输入值。
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沈明轩没有催，他站在设备旁边，看着光源模块稳定下来，屏幕上的功率曲线从上下抖动慢慢收窄。
样片被放入测试位，国产光源耦合设备启动，光信号进入波导，测试平台开始采集数据。
屏幕上的衰减值先是不断跳动，从零点九附近往下压，又在零点七附近来回浮动，操作工程师没敢抬头，手指停在键盘旁边。
等数据稳定后，屏幕上显示出一行结果。
光损耗，
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