第3章反转
第3章反转(第3/3页)
说，换做是我，我也不会重视一个大一学生写的文章，您没错。」
黄琨点点头，往旁边沙发一指：「坐吧，坐下说！」
待徐卫国坐下，黄琨说道：「这篇文章我还没看完，你能不能帮我简要说明一下内容？」
徐卫国心中了然，这分明有考校自己的意思，还是对他文章作者的身份有所怀疑。
「没问题。」徐卫国一口答应。
「我就先介绍一下矽基半导体平面工艺吧！简单说，这是一种在矽片表面通过氧化丶蚀刻，掺杂等步骤制造电晶体的技术……」
「说说技术细节吧！包括完整流程。」黄琨打断道。
徐卫国点点头：「基本制造流程是，在矽衬底上生长出二氧化矽层，随后涂敷一种胶，通过掩膜曝光转移电路图形……」
「说说这种胶应具备的特性。」
「应具备抗腐蚀特性，选择性保护目标或非目标区域。同时应具备高解析度，以制造更精细的电路。」
「曝光应该选用什麽光源？」张希德也问道。
「汞灯。」
「哦，你继续说。」
三个人就这样有问有答，不时停下来讨论技术细节，俨然是一场严肃的技术探讨会。