第309章手测参数注入数控大脑
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中点的直线度偏差是多少？”
陈默连翻都没翻。
“0.8微米，偏左。”
江俊敲入补偿值。
伺服电机嗡了一声，工作台微微平移。
屏幕上的读数跳了一下，归零。
“y轴呢？”
“1.2微米，偏下。”
“行程末端有个0.3微米的回程间隙，要单独补。”
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三百九十五个参数。
陈默一个一个报，江俊一个一个录。
没有人翻笔记本。
全在陈默脑子里。
三年，一百八十六次保养。
每一次保养都要重新测量、重新记录。
数据早就刻进骨头里了。
直播间弹幕滚动：
【这人是活的数据库啊。】
【三年不是白守的，他把整台机器背下来了。】
【人形激光干涉仪，比机器还精密。】
下午三点，全部补偿参数录入完毕。
江俊做最后一项测试：
让工作台在全行程范围内往返运动。
光栅尺实时采集位置数据。
屏幕上，一条绿色的曲线缓缓展开。
平直。
偶尔有微小的波动，但伺服电机在零点几秒内就把它拉回来。
“全行程定位精度，”
江俊盯着数据，声音有点发紧，
“正负3微米。”
陈默靠在机器旁边，慢慢滑坐到地上。
他没哭。
他笑了。
笑着笑着，把脸埋进膝盖里。
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光刻机活了。
但活过来只是第一关。
三天后，第一批试制硅片进入湿法刻蚀环节。
刻蚀槽是陈默用不锈钢焊的，简陋但干净。
酸液配方按照教科书上的标准比例调配。
第一片硅片放进去.
计时，取出，纯水冲洗，推到显微镜下。
江俊看了一眼，脸色变了。
“侧蚀太严重。”
他让开目镜，林希凑上去看。
5微米的线条，被酸液从两侧啃进去将近2微米。
剩下的线宽不到1微米，有些地方已经断了。
换配方，提高酸液浓度。
第二片，断线更多。
降低浓度，缩短时间。
第三片，沟槽底部没刻透。
连续三个通宵。
十七种配方。
没有一片合格。
第四天凌晨，刻蚀车间里弥漫着酸雾的味道。
陈默靠在墙角打盹，江俊的眼睛布满血丝。
林希坐在角落，闭上眼睛。
脑海里，直播间的画面亮了起来。
他把问题原原本本地说了一遍。
弹幕沉默了十几秒。
然后一个id冒了出来：【材料狗不睡觉】。
【别用纯hf。】
【现在的光刻胶耐酸性差，纯氢氟酸刻蚀速率太快，根本控不住侧向钻蚀。】
紧接着，第二条弹幕：
【加nh4f做缓冲
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