第626章光子的新劍
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第626章光子的新劍
第一壁高熱流測試留下的異常曲線還在材料專線等待複核，蘇明哲把wb-02的測試記錄分成三份，分彆交給材料組、設備組和結構組，要求各組沿原始數據重新檢查，任何一處判斷都得有對應記錄。
產業新城的光子芯片研發中心卻亮了一夜。
沈明軒站在c3工程原型旁，麵前擺著三塊控製終端，左側終端顯示采樣頻率，中間終端顯示光譜分辨率，右側終端連接著光子測控平臺的時序記錄。
金屬機箱還保留著調試階段的標簽，外殼邊緣有幾道拆裝留下的細痕，內部光路和光電轉換模塊經過多輪重排，原本屬於航發fadec的控製架構，被重新接入等離子體光譜分析模塊。
團隊成員圍在測試臺四周，冇人開口，所有人的視線都落在屏幕上。
沈明軒伸手按下啟動鍵。
c3工程原型進入采樣狀態，光譜信號從模擬端輸入，光子控製鏈完成時間標記，數據經過隻讀緩存後傳入分析終端。
第一組數據跳出。
采樣頻率達到濱鬆公開平臺的兩點零三倍。
第二組數據緊跟著刷新。
在相同光譜分辨率下，c3的連續采樣穩定保持兩倍以上，短時峰值達到公開平臺的兩點一八倍，按照沈明軒團隊建立的理論模型，距離三倍上限還留著提升空間。
負責記錄的工程師抬起頭：“沈總，連續采樣跑過一輪，數據範圍和昨夜一致。”
沈明軒盯著屏幕：“把昨夜和今天的原始文件疊在一起。”
兩組曲線被調到同一頁麵，峰值位置、采樣間隔和時間戳逐項重合，曲線邊緣隻有極小的誤差。
“誤差範圍。”
“零點零四個百分點。”
“設備溫度。”
“二十二點六攝氏度，變化小於零點二。”
“控製鏈狀態。”
“三套時序記錄一致。”
沈明軒伸手，把c3的工程編號貼到機箱正麵。
“再跑一輪。”
工程師重新裝入校準樣本，光譜信號經過模擬接口進入設備，采樣窗口連續開啟，屏幕上的數據沿著時間軸快速鋪開。
這一次，采樣頻率維持在濱鬆公開平臺兩點零七倍，數據鏈延遲處於工程目標範圍，光子控製端的時間戳與輸入信號保持同步。
沈明軒拿起記錄板，在工程原型完成欄旁邊簽下名字。
“原型完成。”
測試臺四周傳出一陣輕微的呼氣聲，連續工作多日的工程師放下手裡的終端，有人靠到椅背上，有人把記錄本翻到第一頁重新核對。
沈明軒盯著屏幕。
“數據不能隻看峰值。”
負責測試的工程師馬上調出連續運行曲線：“按八小時窗口跑過兩輪，采樣頻率最低為濱鬆公開平臺的一點九八倍。”
“為什麼低於
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