第528章專利圍堵
第528章專利圍堵(第2/3頁)
導自組織路線被他單獨放在右側。
李天在技術批註裡寫了結果,做不出,窗口空,路徑錯,三種標簽貼滿頁麵。
陶安然補了一張晶格圖,左邊是jst公開專利裡的理想化結構,右邊是零阻實測晶格,兩張圖放在一起,連非材料背景的人都能看出方向差得很遠。
第二天深夜,何明遠把終版報告投到陳啟辦公室大屏。
“十七項,十四項缺乏可實施性,三項路線平行,覆蓋率零。”
屏幕上,十七項專利逐一展開,第一項顯示,實驗實施例空缺,第二項顯示,關鍵參數區間缺失,第三項顯示,公開內容停留在理論設想。
何明遠每翻一項,就在右側打一個灰叉。
十四個灰叉打完,屏幕切到最後三項。
“這三項稍微好一點,至少有實驗記錄,但jst走的是化學摻雜路徑,零阻走的是應變場誘導自組織,材料構型、缺陷調控、成相窗口全都走在兩條線上。”
他把最後一頁放大,標題,兩條平行線。
左側,jst化學摻雜路徑,從元素替換到氧空位調控,右側,零阻應變場誘導自組織,從晶格應變到自組織缺陷調控,兩條線從圖紙頂端延伸到底部,始終平行。
“jst封鎖的,是他們自己的想象。”
(本章未完,請點擊下一頁繼續閱讀)第528章專利圍堵(第2/2頁)
趙北看著那頁圖:“這圖適合發朋友圈。”
何明遠把報告合上:“明天開記者會,朋友圈讓媒體發。”
陳啟看向李天和蘇明哲:“技術上夠嗎。”
李天:“夠。”
蘇明哲補了一句:“法院夠看,同行也夠笑。”
次日上午,產業新城發布廳坐滿媒體,日媒來了七家,前排還放著同聲傳譯設備。
何明遠走上臺,身後大屏先放出高橋健一那麵專利牆,隨後畫麵一切,變成十七項逐項比對表。
他冇講開場白,直接翻到第一項。
“jst第一項專利,核心實施例空缺。”
第二項。
“關鍵工藝窗口空缺。”
第三項。
“樣品結果缺少可重複記錄。”
一項一項翻過去,十四項頁麵右下角都出現同一句話,缺乏可實施性。
日媒記者開始低頭查材料,前排有人舉手想問,何明遠抬手示意稍後。
第十五項開始,屏幕切到兩條平行線圖。
“剩下三項,確實有實驗記錄,但技術路線和零阻無交叉。”
他用激光筆點在左側:“jst走化學摻雜路徑。”
紅點移到右側:“零阻走應變場誘導自組織。”
兩條線在屏幕上安靜地並排向下,旁邊標著十四個技術節點,交叉項一欄寫著零。
“jst的路和零阻的路,從未交叉。”
臺下的快門聲響起。
何明遠轉向
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