第510章臨界
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第510章臨界
零阻實驗室門口的白板上，紅筆寫著“30天，克級合成驗證”，第一個工作日，材料製備區的門禁名單從二十七人縮到十九人。
蘇明哲站在操作臺前，逐項核對原料純度，三位超導老專家分站兩側，領隊專家手裡拿著傳統工藝參考表，表格邊角已經被翻出毛邊。
李天站在中控臺前，保溫杯放在屏幕右側，杯蓋擰緊，他看完材料區、潔淨室、測控室三處回傳數據，才把手放到啟動鍵旁邊。
屏幕上分成原料純度、溫度窗口、力值曲線、氣氛參數四塊區域，每一塊右上角都亮著綠色標識。
蘇明哲抬頭看李天：“原料純化段準備完畢。”
領隊專家把參考表合上：“傳統路線裡，這一步至少要過兩輪篩，我們現在直接上零阻模型，風險在前驅體均勻性”。
李天看著屏幕：“開始”。
蘇明哲按下啟動鍵，原料純化係統啟動，透明管路裡細粉被送入反應艙，監測曲線一條條爬上屏幕，零阻第一次實驗正式跑起來。
陳啟站在玻璃隔斷外看了一會兒，確認中控臺無異常，才回到自己的辦公室。
桌麵上，係統界麵原本處在待機狀態，他剛坐下，右側自由模式按鈕自己亮了起來。
一行提示彈出：【檢測到宿主團隊已啟動零阻材料合成，自由模式已激活，正在分析實時工藝窗口，註意：本次由本係統主動介入，原因：實際工藝條件與圖紙理論模型存在批間差異，需實時修正】。
陳啟看著“主動介入”幾個字，手指在桌麵上敲了兩下：“你還會主動乾活？”
係統回：【偶爾，彆習慣】。
界麵繼續展開，原料批次，設備腔體容積，氣氛純度，溫控響應，全被拉進同一張計算表，右側最優解開始刷新。
第一項參數跳出，溫度窗口±3c，旁邊給出紅色附註，超過窗口後，晶格條紋會出現不可逆偏移。
第二項參數跳出，力值曲線三段式，第一段緩升，第二段平臺，第三段階梯回落，任何一段切換時間偏離0.5%以上，成相效率會大幅下降。
第三項參數跳出，摻雜比例精確到0.01mol%，係統把四個數字單獨放大，像怕陳啟看漏。
最底部又彈出一行：【以上參數為實時工藝窗口最優解，建議以理論模型推演結果形式同步給李天，他更容易接受模型邏輯】。
陳啟把三項參數抄到紙上，黑筆寫得很慢，溫度窗口，三段式力值曲線，0.01mol%，末尾又加了一行，批間差異修正版本。
他合上係統界麵，拿起那張手寫參數表，重新走向零阻實驗室。
材料製備區內，第一段純化已經跑到中段，蘇明哲盯著中控屏，領隊專家坐在旁邊，手裡的紅筆始終未
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