第430章國產設備的驚喜
第430章國產設備的驚喜(第2/4頁)
神。
沈明軒冇有說話，他把參數菜單往下翻，停在控製模式那一欄。
日本設備用的是精密伺服閉環，參數鎖得很死，優點是定位準，缺點是可調範圍窄，過去他們所有波導側壁粗糙度優化，都建立在那套設備的精密路徑上。
華科精密這臺樣機不一樣。
它用的是開環加軟件補償，機械精度不占優勢，但光斑功率密度分布可以手動拉寬，補償曲線也能開放到工程師端，屏幕上每一個參數欄都能點進去改。
沈明軒盯著光斑功率密度分布的設置欄，手指停在觸控屏邊緣。
禁運公告發布後，他這幾天一直在看同一個問題，如果日本設備再也進不來，光芯實驗室不能一邊罵禁運，一邊繼續按日本設備的工藝窗口找答案。
隻能用國產設備。
那就在國產設備的可調範圍裡找最優解。
之前他們卡在零點八，是因為梯度刻蝕的側壁粗糙度已經壓到一個平臺，繼續用窄而尖的光斑去修飾側壁，邊緣熱影響區會很不均勻，越往下調，損耗改善越小。
如果把光斑功率密度拉寬，用開環模式做更大的軟件補償，側壁上形成的熔融層會更均勻，粗糙度也許能再往下。
沈明軒拿起記號筆，在白板上畫了兩條曲線。
一條窄而尖，是舊設備的光斑分布；一條寬而平，是華科樣機能給出的分布。
工程師陳宇航站在旁邊，看著那條寬曲線：“沈博，這樣耦合效率會不會掉？”
“會掉一部分。”
沈明軒在寬曲線中段畫了一個圈：“但我們不要最高耦合效率，我們要側壁更均勻的能量分布，先試這個窗口。”
另一個工程師翻著工藝表：“那波導刻蝕後的熱處理參數也要跟著改。”
沈明軒點頭：“三項一起動：光斑寬度、功率密度、補償曲線，其他參數不動。”
陳宇航看了眼舊記錄：“這是新窗口，冇有曆史數據。”
沈明軒把記號筆扣上：“冇有就跑出來。”
第一輪參數調整用了很久，華科精密的控製軟件還帶著早期樣機的痕跡，有兩個界麵跳轉不順，一名工程師把問題記進聯調清單，另一名工程師在控製臺旁手動複核輸入值。
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沈明軒冇有催，他站在設備旁邊，看著光源模塊穩定下來，屏幕上的功率曲線從上下抖動慢慢收窄。
樣片被放入測試位，國產光源耦合設備啟動，光信號進入波導，測試平臺開始采集數據。
屏幕上的衰減值先是不斷跳動，從零點九附近往下壓，又在零點七附近來回浮動，操作工程師冇敢抬頭，手指停在鍵盤旁邊。
等數據穩定後，屏幕上顯示出一行結果。
光損耗，
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