第412章光損耗破0.8
第412章光損耗破0.8(第1/3頁)
第412章光損耗破0.8
光子芯片研發中心的測試臺前，第四輪波導樣片的數據正在一點一點往外跳。
屏幕左側疊著三條舊曲線，第一條0.95db/cm，第二條0.88db/cm，第三條0.82db/cm，三條線的終點都被沈明軒用紅筆在打印稿上圈過。
實驗室裡隻有設備運行的低響。
兩個工程師站在他身後，一個手裡拿著記錄板，一個盯著實時數據窗口。
沈明軒手裡捏著一支紅筆，筆帽被他扣在尾端，筆尖懸在打印稿上方。
這一輪從上午開始跑，樣片編號是g-4-17，工藝記錄裡多了一行備註，梯度刻蝕窗口二次修正。
年輕工程師看了一眼前三輪數據，小聲說：“沈老師，前三輪趨勢是往下的，0.95，0.88，0.82。”
沈明軒冇有抬頭。
屏幕上的第四條曲線開始成型，前半段比第三條更低一點，中段有一小段抬頭，又慢慢下去。
沈明軒把鼠標移到曲線尾端，等最後一個數據點刷新出來。
第四輪數據全部跑完。
屏幕上四條曲線完整疊在一起，從上到下分得清楚，每一條都比前一條低。
沈明軒拿起紅筆，在打印稿第一條曲線旁畫了一個箭頭。
1.1→0.95，刻蝕角度容差過大，高溫測試時額外散射損耗明顯。
第二個箭頭。
0.95→0.88，梯度刻蝕後，側壁粗糙度從12nm降到8nm。
第三個箭頭。
0.88→0.82，刻蝕時間窗口繼續收窄，端麵損耗冇有繼續放大。
第四個箭頭畫到一半，他的筆停住。
曲線終點旁邊，測試條件一行一行列著，1550nm，室溫，te模式，樣片編號g-4-17，重複測試三次。
最終讀數，0.8db/cm。
旁邊的工程師低頭確認原始文件名，又看向主屏：“沈老師，重複測試三次都在0.8上下，偏差冇有超。”
沈明軒把鼠標移到原始數據導出按鈕上，保存，備份，簽名。
工程師伸手想把打印稿拿去複印，沈明軒先按住了。
他把四個箭頭重新看了一遍，紅筆從1.1一路滑到0.8。
實驗室裡仍冇人說話。
年輕工程師終於冇忍住，低聲說：“破了。”
沈明軒退後半步，看著屏幕上的四條線。
“0.8。”
他把紅筆蓋好，放在測試臺邊。
“方向對了，梯度刻蝕是通的。”
這句話落下，記錄板上的工程師才把剛才空著的結果欄補上。
0.8db/cm。
沈明軒打開電腦裡的六周攻關計劃。
文件第一欄寫著，第一階段，突破0.8db/cm。
他在這一欄右側打了一個勾。
勾打完後，屏
（本章未完，請點擊下一頁繼續閱讀）