歸國留洋水貨?叫我芯片之父!

第515章稀土需求的第一次暴增

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第515章稀土需求的第一次暴增

國內的基建速度每每能讓人震動。

哪怕他這個磁懸浮列車的方案提出者,對於磁懸浮列車示範區的建設速度也極為震驚。

鐵道部從去年起就憋著口氣,如今的建設速度極為誇張。

尤其是年初奉天市第一機床廠終於完成了五軸五聯動的數控機床,整個磁懸浮列車施工蜿蜒段的技術要求便徹底達標。

這條二十公裡的磁懸浮建設段,大有下半年就要完工啟動測試的跡象。

沈永健這邊對於磁懸浮所需的電力係統,也擔心電力供應問題,進行了特高壓輸電線的研製。

不過研製工作才進行到一半,隨著微電子廠如今l-3芯片出口產量的進一步擴大。

包括卓邵文處l-5芯片最終研製生產對工藝的更高要求。

沈永健還是暫時將特高壓輸電線放放,先把精力投入在光刻機上。

距離上一次光刻機改進,已是四年前。

步進式光刻機,在目前已經是極為先進的產品。

米方當下新一代的光刻機是投影光刻機,和國內的步進式光刻機算是同一代設備。

不過總的而言,還是國內步進式光刻機更為成熟,也是未來演進的方向。

沈永健翻看著微電子廠送來的使用反饋。

有一線光刻機操作員的反饋,也有技術維修相關工程師的反饋,同時還有份是自己學生薛福根的意見。

意見總共有幾條,首先便是視野有限。

目前的光刻機對於l-3與l-4的幾個延伸型號芯片,尤其是設計麵積大的“大芯片”容易照不全。

需要將這塊“大芯片”拆分成好幾塊拚接曝光。

而且工藝上曝光的邊緣容易糊,不均勻。

多層套刻時,精度比較差,這也是目前新一代l-4芯片良品率上不去的主要原因。

沈永健眉頭微蹙,從邊上的檔案袋內取出上一代的步進重複光刻機圖紙。

腦中仔細回顧原先的設計思路,包括這些年對於光刻機的一些想法積累,很快便動筆規劃起新圖紙。

關於光刻機的幾代演進方向,他心中一清二楚。

真要隻是從設計考慮,他能發揮的空間很大,哪怕是後世接近現代化光刻機也並非不可能。

但考慮到現實的生產條件,最後還是搖了搖頭,將步進重複光刻機先試著升級為步進掃描光刻機。

步進重複與步進掃描,其實都算是步進式光刻機,但兩者性能差距不小。

傳統的步進重複是“靜止曝光”,而步進掃描則是“動態曝光”。

在曝光瞬間,掩模臺和矽片臺不再保持靜止,而是按照精確的縮小比例進行同步反向移動。

照明光線隻通過一個狹長的“狹縫”對矽片進行掃描式曝光。

一邊設計,沈永健一邊在紙張上推導

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