第420章危險的獎勵
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第420章危險的獎勵
一九九一年六月九日，清晨。
文京區，本鄉。
皋月迷迷糊糊地睜開眼睛時，最先看見的是一片陌生的天花板。
臥室的窗簾冇有完全拉緊，六月清晨的陽光從縫隙裡照進來，在床尾和地毯上留下一條窄窄的光帶。
房間裡很安靜，空調送風的聲音輕得幾乎聽不見，旁邊的人呼吸也很平穩。
……
等等，為什麼旁邊會有人？
皋月盯著天花板看了幾秒，才想起這裡是哪裡。
西園寺·閒院·本鄉，頂層公寓。
艾米的家。
她下意識想要起身，身體卻隻動了一點便被拉了回去。
向下看去，隻見一條手臂橫在她腰間，另一隻手還扣著她的手腕。
艾米整個人從背後貼在她身上，臉埋在她的頭發旁，一條腿還壓住了她的雙腿，像是生怕懷裡的人會在睡夢中逃走，連最後一點縫隙都堵得嚴嚴實實。
皋月低頭看了看腰間的手，又艱難地偏過臉。
艾米近在咫尺。
她睡得很熟，黑色的長發散在枕頭上，嘴角還帶著一點極其滿足的笑意。
皋月沉默了片刻。
隨後，她想起了幾天前發生的事。
艾米在臺場的實驗線上，完成了一套被她稱作“自校準計算光刻係統”的東西。
它將逆向光刻、相移掩模、光學鄰近修正與曝光後的實測數據納入了同一套計算流程中。係統先推演光線穿過掩模後產生的偏移，再根據實際結果修正掩模圖形與曝光參數，以計算彌補設備精度的不足。
依靠這套係統，艾米隻用一臺現有的二百四十八納米krf實驗設備，便刻出了零點一八微米的測試線條，隨後又製造出一枚能夠穩定運行的零點二五微米測試芯片。
零點一八微米目前還隻是單純的線條測試，零點二五微米芯片的規模也不大，良率更談不上理想。可這兩項結果已經證明，現有設備能夠被推到遠超原定極限的位置。為此，下村和光刻實驗室的研究人員在臺場連續複核了整整兩天。
而這意味著，西園寺無需等待下一代光刻機進入工廠，便可以提前推進原本數年後才能實現的製程。現有設備的使用期限會被大幅延長，正在建設的試驗產線也能由此跳過一段漫長的追趕過程。
遠藤看完初步評估後，隻在報告末尾寫了一句話。
僅第一階段，預計便可節省數百億日元設備投資。
而這還冇有計算技術領先帶來的訂單、專利和產業地位。
幾天前，皋月帶著千鶴來到本鄉公寓，原本隻是想陪艾米吃一頓晚飯，順便慶祝實驗成功。
餐廳送來的蛋糕還擺在桌上，艾米卻抱著皋月送來的花，在客廳裡來回走了好幾圈。她先問皋月實驗做得好不好，又問這項成果算不算“
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